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超純水設備為硅片清洗提供了堅實保障

2025-05-14

  在半導體產業蓬勃發展的當下,硅片作為芯片制造的核心原材料,其清洗環節的重要性不言而喻。而硅片清洗用水生產,超純水設備更是不可或缺的關鍵設備,它為硅片的高質量清洗提供了堅實保障。?

  硅片清洗對水質有著近乎苛刻的要求。哪怕很微量的雜質,如金屬離子、顆粒污染物、有機物等,都可能在硅片表面殘留,對后續的光刻、蝕刻等工藝產生嚴重影響,進而導致芯片性能下降,甚至出現廢品。以金屬離子為例,它可能改變硅片的電學性能,使得芯片的電路功能異常;顆粒污染物會破壞硅片表面的平整度,影響光刻精度。因此,用于硅片清洗的水必須是超純水,其電阻率需達到 18.2MΩ?cm 以上,幾乎不含任何雜質。?

超純水設備

  超純水設備憑借先進的技術原理實現了超純水的生產。它通常結合了反滲透(RO)、電去離子(EDI)等多種工藝。反滲透技術利用半透膜的特性,在壓力驅動下,將水中的大部分離子、有機物和顆粒物質截留,去除率可達 90% 以上;EDI 技術則進一步通過電滲析和離子交換樹脂的協同作用,深度去除水中殘留的微量離子,最終產出滿足硅片清洗要求的超純水。這種層層遞進的處理方式,確保了水質的高度純凈。?

  超純水設備在硅片清洗用水生產中有著無可替代的優勢。一方面,它能夠穩定、連續地生產超純水,滿足大規模硅片清洗的用水需求;另一方面,相比傳統的蒸餾等制水方法,超純水設備具有更高的效率和更低的能耗,降低了生產成本。而且,其自動化程度高,便于操作和管理,可實時監測水質和設備運行狀態,及時發現并解決問題。?

  可以說,超純水設備是硅片清洗用水生產的核心。沒有它,就無法獲得滿足要求的超純水,硅片清洗的質量也就難以保證。隨著半導體技術的不斷進步,對硅片清洗用水的質量要求還將持續提升,超純水設備也將不斷升級創新,在硅片清洗乃至整個半導體制造領域發揮更為重要的作用。

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